Temescal FC/BCD-2800 Deposition System

中規模生産及び大口径ウェーハ用研究開発用装置

FC2800 とBCD-2800 は、ハイスループット効率と共に、864mm から1,067mm 迄のソース-ウェーハ間距離によるリフトオフプロセス機能を備えた、クリーンルーム対応の装置です。装置は共に、スルーザウォールに依るクリーンルー運用仕様を備え、イービームソース、蒸着材料の自動供給機構、加熱、冷却及びクリーニング等、様々な機能の組み合わせが可能です。

容易な保守作業

オフセットしたポンプポート、ヒンジ付きドアーパネル、振り出せるソーストレイは、Temescal装置の保守作業を容易にする機構です。オフセット付きポンプ機構は、ポンプ本体へのパーティクルの侵入を最小限に抑え、予期せぬポンプ故障を防止します。ヒンジ付きドアーパネルは、プロセスチャンバーとポンプへのアクセスを容易にします。電動で降下し振り出されるソーストレイは、蒸着材料の供給、清掃、保守作業を容易にします。循環水のマニュウホールド、高真空バルブのベローズ/シールド、その他のポンプシステム・コンポーネントも、簡素化され独立しています。

主な機能:

  • BCD-2800はロードロック無し、FC -2800はロードロック付き
  • プロセスチャンバーサイズ:  28インチ(711mm) x 28インチ(7,11mm) x 28インチ(711mm)
  • 標準ソース基板間距離: 864mm
  • オプションの延長カラーを使用した場合のソース基板間距離:1,067mm
  • ソーストレイには、複数のイービーム・ソースと抵抗加熱源を装備可能
  • プロセスチャンバーに3cm又は5cmのイオン源を装着可能
  • プロセスとソースチャンバーにクライオポンプを装備